Materiali ibridi ad elevata resistenza al danneggiamento laser utilizzabili come matrici per applicazioni fotoniche

Brevetto
Data di Pubblicazione:
2004
Citazione:
Materiali ibridi ad elevata resistenza al danneggiamento laser utilizzabili come matrici per applicazioni fotoniche / Innocenzi, Plinio; G., Brusatin; M., Maggini; M., Prato; R., Signorini; M., Meneghetti; R., Bozio; G., Scorrano. - (2004).
Tipologia CRIS:
6.1 Brevetto
Elenco autori:
Autori di Ateneo:
Link alla scheda completa:
https://iris.uniss.it/handle/11388/88117