Materiali ibridi ad elevata resistenza al danneggiamento laser utilizzabili come matrici per applicazioni fotoniche

Patent

Publication Date:

2004

Short description:

Materiali ibridi ad elevata resistenza al danneggiamento laser utilizzabili come matrici per applicazioni fotoniche / Innocenzi, Plinio; G., Brusatin; M., Maggini; M., Prato; R., Signorini; M., Meneghetti; R., Bozio; G., Scorrano. - (2004).

Iris type:

6.1 Brevetto

List of contributors:

Innocenzi, Plinio; G., Brusatin; M., Maggini; M., Prato; R., Signorini; M., Meneghetti; R., Bozio; G., Scorrano

Authors of the University:

INNOCENZI Plinio

Handle:

https://iris.uniss.it/handle/11388/88117